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  • EVG7300多功能紫外納米壓印光刻系統(tǒng)

    多功能EVG7300 UV納米壓印光刻系統(tǒng)可以支持多種相關(guān)的UV工藝:SmartNIL,晶圓級光學(WLO)和堆疊-三種功能合并在一個靈活的工具中

    更新時間:2024-03-19
    型號:EVG7300
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:2412
  • EVG610納米壓印光刻系統(tǒng)

    納米壓印支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。

    更新時間:2024-03-19
    型號:EVG610
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:6324
  • EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng)

    EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,可在最小的占位面積上提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術(shù),并具有最高的產(chǎn)能,先進的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件,最短的掩模和工具更換時間以及高效的全球服務(wù)和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統(tǒng)有半自動或自動配置,并配有集成的振動隔離功能。

    更新時間:2024-03-19
    型號:EVG6200 NT
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:2759
  • EVG720自動化SmartNIL紫外納米壓印光刻系統(tǒng)

    長達 150 毫米的自動化全場紫外納米壓印解決方案,采用 EVG 專有的 SmartNIL 技術(shù)

    更新時間:2024-03-19
    型號:EVG720
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:781
  • EVG770 NT分步重復納米壓印光刻機

    我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結(jié)合金剛石車削或直接寫入方法,分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

    更新時間:2024-06-17
    型號:EVG770 NT
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:1028
  • EVG620 NT掩模對準光刻機系統(tǒng)

    EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在蕞小的占位面積上結(jié)合了先進的對準功能和蕞優(yōu)化的總體擁有成本,提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術(shù)。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,蕞短的掩模和工具更換時間以及高效的全球服務(wù)和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。

    更新時間:2024-03-19
    型號:EVG620 NT
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:1184
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